颜色:白色/透明 厚度0.08-0.17mm 胶层厚度:0.01-0.03mm 贴玻璃粘着力/UV前180度剥离力:2N-15N(N/25mm) 贴玻璃过UV后粘着力/UV后180剥离力:0.1N-0.2N(N/25mm) 残胶状况:无残胶 耐热性:-10℃*2hr/150℃*2hr 适应温度℃:-10~150 标准尺寸(宽mm):230mm、300mm、1030mm UV保护膜的特点: 1:切割时高粘着力,照射UV后粘度很低捡拾时晶片不飞散,不残胶。因为有很强的黏着力来固定晶圆, 即使是小芯片也不会发生位移或剥除而能确实的切割。 2:照射UV反应时间快速,有效提升工作效率,由紫外线照射能够控制瞬间的黏着力, 即使是大芯片也可以用较轻的力能将产品拾起。 3、保持晶粒在切割中的完整,(无任何晶粒流失)减少切割中所产生的崩碎。 4、确保晶粒在正常传送过程中,不会有位移、掉落的情形,水不会渗入晶粒与胶带之间。 5、Uv固化晶圆切割保护膜(的特点就是在uv固化前有普通保护膜所不能比的**高粘度(可以达到惊人的1500g-2000g gf/25mm) 在经过uv紫外线照射之后粘度又可以变成**低粘的15g-20g。甚至更低粘力克数。 6、另外还有一个特点就是PO基材具有较强的(横纵向)延展性(elongation%)可以达到300 、600。 UV保护膜应用: 半导体晶片表面加工;电子及光电产业部件制作加工工程;LCD和TP触控面板玻璃减薄,研磨抛光;LED切割研磨抛光;蓝宝石基板的薄化研磨制程;晶片研磨、切割、各种硅片、封装基板、陶瓷、玻璃、水晶精细电子零件等;